真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。今天，昆山浦元真空技術工程有限公司為您介紹以下幾種鍍膜機工作原理：
    

        一、空心陰極離子鍍原理

               在本底真空為高真空的條件下，由陰極中通入氬器氣（1-10-2）在陰極與輔助陽極之間加上引弧電壓，使氬氣發生輝光放電，在空心陰極內產生低壓等離子體放電，陰極溫度升高到2300-2400K時，由冷陰極放電轉為熱陰極放電，開始熱電子發射，放電轉為穩定狀態。通入反應氣體，可以制化合膜。

        二、測控濺射工作原理

              先將真空室預抽至10-3Pa，然后通入氣體（如氬氣），氣壓為1-10 Pa時，給靶加負電壓，產生輝光放電，電子在電場正作用下加速飛向基片時，與氬原子碰撞，電離出Ar和另一個電子；轟擊靶材，由二次電子電離的 越來越多，不斷轟擊靶材；磁場改變電子的運動方向，以電磁場束縛和延長電子的運動軌跡，從而提高電子對工作氣體的電離幾率。

        三、多弧離子鍍工作原理

               其工作原理為冷陰極自持弧光放電，其物理基礎為場致發射。被鍍材料接陰極，真空室接陽極，真空室抽為高真空時，引發電極啟動器，接觸拉開，此時，陰極與陽極之間形成穩定的電弧放電，陰極表面布滿飛速游動的陰極斑，部分離子對陰極斑的轟擊使其變成點蒸發源，以若干個電弧蒸發源為核心的為多弧離子鍍。

        四、電阻蒸發式鍍膜機

               膜材即要鍍的材料放于蒸發舟中，置于真空室中，抽到一定真空時，通過電阻加熱膜材，使其蒸發，當蒸發分子的平均自由程大于蒸發源至基片的線性尺寸時，原子和分子從蒸發源中逸出后，到達基片形成膜。為了使膜厚均勻，可以利用電機帶動基片旋轉，并用膜厚儀控制膜厚，制出優質膜。

        五、E型槍工作原理

               陰極燈絲加熱后發射具有0.3    EV初動能的熱電子，這些熱電子在燈絲陰極與陽極之間的電場作用下加速并會聚成束狀。在電磁線圈的磁場中，電子束沿E x B的方向偏轉，通過陰極時，電子的能量提高到10KV，通過陽極電子偏轉270度角而入射坩堝內的膜材表面上，轟擊膜材使其蒸發。

        六、PCVD鍍膜工作原理

               將被鍍件放在低壓輝光放電的陰極上，通入適當氣體，在一定溫度下，利用化學反應和離子轟擊相結合的過程，在工件表面獲得涂層。

       昆山浦元真空技術工程有限公司將膜層工藝、設備研發、制造生產、銷售、服務集于一體，致力于為企業、科研院所、薄膜涂層加工中心等提供有競爭力的綜合解決方案和服務。我公司將竭誠為您服務，歡迎國內外新老客戶蒞臨參觀、指導并洽談業務！