在真空鍍膜機發展過程中，真空鍍膜機比較片在光學鍍膜機中擔負著裝載比較片的功能。比較片裝載數量少，限制光學薄膜的鍍制層數；比較片有效面積小，光路調整不方便，光信號的信噪比差，嚴重影響光學薄膜的質量。根據現在鍍膜產品的要求，現有的真空鍍膜機比較片機構，已不能滿足現代光學30 層以上精密光學薄膜的鍍膜要求。為解決現有技術上存在的缺陷，綜合以上兩種比較片結構優缺點和新產品鍍膜的要求，創新、優化設計新一代的比較片機構，該裝置要滿足：結構簡單；比較片裝載方便；重復定位性好；可靠性高；制造成本低等特點。

　　真空鍍膜機多片式比較片裝置，有比較片裝載換位機構、轉動密封饋入機構和換位驅動機構。

　　換位驅動機構固定在鍍膜機箱體頂板4 上，由電機9、主動齒輪8、從動齒輪7、和定位盤6 組成，其中從動齒輪7 和定位盤6 固定在軸1 上，定位盤6 上有3 個均分的狹縫，槽型光藕17 在狹縫處接受光信號，控制電機的旋轉和停止。

　　轉動密封饋入機構由威爾遜密封機構5 和軸承座2 組成，軸承座2 外側套裝有固定筒3，固定在鍍膜機箱體頂板4 上。裝載換位機構由撥動盤15、支承盤16、上盤14 和比較片存儲筒13 組成。撥動盤15 連接的撥動軸11，通過聯軸器10 和密封饋入機構的軸1連接。
    
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